SiC-МОП-транзисторы с суперпереходом выходят на новый уровень

SiC-МОП-транзисторы с суперпереходом выходят на новый уровень

За последние 40 лет карбидокремниевые МОП-транзисторы прошли путь от высокоомных маломощных компонентов до эффективных устройств массового производства. Развитие планарных и траншейных структур позволило уменьшить сопротивление открытого канала \(RDS(on)\), увеличить плотность ячеек и повысить удельную мощность.

Следующим этапом стала архитектура superjunction (SJ), которая может улучшить основные характеристики SiC-транзисторов: снизить потери при переключении, уменьшить сопротивление в открытом состоянии, повысить пробивное напряжение и сохранить устойчивость к короткому замыканию.

APEC 2026: производители ускоряют разработку

На конференции IEEE Applied Power Electronics Conference and Exposition 2026, прошедшей 22–26 марта в Сан-Антонио, ведущие полупроводниковые компании представили новые решения на основе материалов с широкой и сверхширокой запрещенной зоной. Значительная часть разработок была связана с SiC-МОП-транзисторами, выполненными по технологии SJ.

Архитектура superjunction рассматривается как один из ключевых способов дальнейшего повышения эффективности высоковольтных SiC-МОП-транзисторов.

Пока такие компоненты еще не стали стандартом коммерческого рынка. Однако производители стремятся перевести высоковольтные устройства, особенно рассчитанные на 1200 В и более, из исследовательской стадии в серийное производство. Среди участников этого направления — Infineon Technologies, Bosch, STMicroelectronics, Navitas Semiconductor, ROHM Semiconductor, Toshiba, Mitsubishi Electric и Fuji Electric. По оценке Yole Group, широкое распространение SiC-МОП-транзисторов с суперпереходом может начаться в 2027–2028 годах на фоне роста выпуска 200-миллиметровых пластин.

Infineon CoolSiC TSJ приближает технологию к рынку

В прошлом году Infineon Technologies представила концепцию trench-based SiC superjunction (TSJ). Она объединяет траншейную архитектуру SiC с принципами кремниевых SJ-технологий, применяемых, например, в серии CoolMOS. По данным компании, CoolSiC TSJ способна повысить показатель \(RDS(on) \times A\) до 40% и увеличить допустимый ток до 25% без ухудшения защиты от короткого замыкания.

Платформа может использоваться в дискретных компонентах, формованных и каркасных модулях, а также в виде готовых кристаллов. Сейчас Infineon испытывает 1200-вольтный CoolSiC на базе TSJ в корпусе ID-PAK. Массовый выпуск с применением 200-миллиметровых пластин запланирован на 2027 год. Первоначально устройство ориентировано на тяговые инверторы электромобилей, но технология также подходит для зарядных систем мощностью до 800 кВт.

Параметр Характеристика CoolSiC TSJ
Архитектура Траншейная SiC superjunction
Номинальное напряжение 1200 В
Планируемый корпус ID-PAK
Изменение показателя RDS(on) × A До 40% улучшения
Рост токовой нагрузки До 25%
Целевые применения Тяговые инверторы и зарядные устройства для электромобилей
Максимальная масштабируемая мощность платформы До 800 кВт
Планируемый серийный выпуск 2027 год, пластины диаметром 200 мм

Технические детали от Infineon

На встрече с Питером Фридрихсом, специалистом Infineon по SiC-приборам, стало известно, что компания продолжает проверку электрических характеристик и валидацию 1200-вольтного CoolSiC TSJ. Техническое описание продукта ожидается в конце 2026 года или в начале 2027-го.

Платформа CoolSiC TSJ рассчитана не только на отдельный транзистор, но и на масштабирование в различные типы силовых модулей.

По словам специалиста, испытания показывают возможность снизить \(RDS(on)\) 1200-вольтного устройства ниже 10 мОм, вплоть до 5 мОм. Одновременно разработчики работают над уменьшением токов утечки и обеспечением стабильности при высоком напряжении.

К основным техническим задачам Infineon относятся:

  • точное выравнивание P- и N-столбцов в структуре superjunction;
  • достижение оптимального баланса заряда;
  • снижение удельного сопротивления \(Ron, sp\);
  • сохранение устойчивости при повышенном напряжении;
  • подтверждение характеристик защиты от короткого замыкания.

Новые поставщики присоединяются к гонке

Важным разработчиком SiC-SJ-МОП-транзисторов остается немецкая Bosch. После выпуска компонентов третьего поколения компания совершенствует вертикальную траншейную технологию и переходит к решениям четвертого и пятого поколений. Пятое поколение должно сохранить преимущества предыдущих серий и получить полноценную SJ-архитектуру.

Начало производства запланировано на 2031 год, однако отбор образцов для отдельных крупных заказчиков может начаться примерно за два года до этого срока. Bosch ожидает, что у 1200-вольтных компонентов пятого поколения \(Ron, sp\) уменьшится на 40% по сравнению с устройствами четвертого поколения. При температуре перехода 175°C целевое значение должно составить менее 2 мОм·см².

Новые напряжения и китайские разработки

Развитие технологии не ограничивается диапазоном 1200 В. В рамках программы ARPA-E специалисты GE Aerospace продемонстрировали 3,5-киловольтные SiC SJ-диоды JBS и 5-киловольтные SiC SJ-МОП-транзисторы. Для их создания применялись глубокая имплантация со сверхвысокой энергией и эпитаксиальное наращивание.

Переход к напряжениям 3,3–5 кВ расширяет область применения SiC-SJ-транзисторов от автомобильных систем до промышленной энергетики и сетевых преобразователей.

Японская исследовательская группа с участием AIST, Sumitomo Electric, Fuji, Toyota, Toshiba и Mitsubishi Electric разработала 1170-вольтный SiC-SJ-МОП-транзистор с \(Ron, sp\) 0,63 мОм·см². Также была представлена 3,3-киловольтная версия с показателем 3,3 мОм·см² при комнатной температуре.

К наиболее заметным результатам новых разработок относятся:

  • 3,5 кВ — SiC SJ-диоды JBS, созданные GE Aerospace;
  • 5 кВ — SiC SJ-МОП-транзисторы с низким \(Ron, sp\);
  • 1170 В — японский транзистор с \(Ron, sp\) 0,63 мОм·см²;
  • 3,3 кВ — японская разработка с \(Ron, sp\) 3,3 мОм·см²;
  • 1200 В–3,3 кВ — диапазон китайских SiC-SJ-разработок;
  • 71% — потенциальное снижение \(Ron, sp\) в структуре с экранированным затвором, предложенной специалистами Даляньского технологического университета.

От пластин 200 мм к подложкам 300 мм

Параллельно с совершенствованием структуры транзисторов производители увеличивают диаметр SiC-пластин. Китайские компании Zhejiang Jingsheng Mechanical & Electrical и SICC развивают линии по выпуску 300-миллиметровых подложек. В США Wolfspeed представила монокристаллическую SiC-пластину диаметром 300 мм. Увеличение размера подложки должно снизить себестоимость компонентов и поддержать растущий спрос со стороны центров обработки данных с ИИ, электромобилей, зарядной инфраструктуры и возобновляемой энергетики.

Автопроизводители внедряют SJ

Hyundai Motor Company стала одной из первых компаний, заинтересовавшихся 1200-вольтными SiC-МОП-транзисторами Infineon. Автопроизводитель планирует использовать их для создания более компактных и эффективных тяговых систем. Toyota также применяет преимущества CoolSiC TSJ. Японская компания интегрирует такие устройства во встроенное зарядное устройство электромобиля bZ4X и преобразователи постоянного тока. SiC-МОП-транзисторы с архитектурой superjunction постепенно переходят из лабораторий в коммерческие проекты.

Увеличение диаметра пластин становится важным условием для снижения стоимости SiC-компонентов и перехода SJ-технологии к массовому выпуску.

Infineon готовит серийный выпуск в 2027 году, Bosch рассчитывает вывести пятое поколение в 2031-м, а развитие 300-миллиметровых пластин должно поддержать снижение себестоимости. В ближайшие годы SJ-технология может стать одним из главных направлений развития силовой электроники для электромобилей, зарядных станций, дата-центров и энергетических систем.